处理XRR、XRF和XRD计量的FAB工具

理学MFM310通过光学或超声波技术不能执行高精度测量。通过该完善的X射线计量工具可执行从超薄单层膜到多层膜的产品和空白晶圆的高吞吐量测量。

用于大批量生产的设计

MFM310充分考虑到大量生产200mm和300mm晶圆而设计：通过XRR和XRF高吞吐量测量厚度，用于产品晶圆测量的低杂质晶圆处理和基于模式识别的位置控制，用于半导体生产洁净室操作的CE标记（CE Marking）和S2/S8规则（S2/S8 Compliance），遵守GEM-300/HSMS和工厂自动化标准，高可靠性机械性能和低功耗及低成本。

COLORS™ 技术

COLORS™ X射线光学器件通过理学MFM310实现小领域的测量而得到改善。COLORS的光束模块与各种XRF激励光源结合，通过优化为各种薄膜应用提供小点的高亮度。理学通过其优异实力为当前和未来的市场需求制造X射线源。