膜厚测量仪
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- 膜厚测量仪
- KAGAKU
- FE-300
- 日本
- 现货
产品详细介绍
高精度な光干渉法による膜厚測定を簡単操作で実現した小型で低価格な膜厚計です。
必要な機器を本体部に収納したオールインワンタイプの筺体を採用し、安定したデータの取得を実現しました。
低価格でありながらも絶対反射率の取得により、光学定数の解析も可能です。
製品情報
特 長
- 薄膜から厚膜の幅広い膜厚に対応
- 反射スペクトルを用いた膜厚解析
- コンパクト・低価格でありながらも非接触・非破壊で高精度測定を実現
- 条件設定や測定操作が簡単！どなたでも手軽に膜厚測定が可能
- 非線形最小二乗法、最適化法、PV法、FFT解析法などによって幅広い種類の膜厚測定が可能
- 非線形最小二乗法の膜厚解析アルゴリズムにより、光学定数解析（n：屈折率、k：消衰計数）が可能
測定項目
- 絶対反射率測定
- 膜厚解析解析（10層）
- 光学定数解析（n：屈折率、k：消衰計数）
用 途
- 機能性フィルム、プラスチック
透明導電膜（ITO、銀ナノワイヤー）、位相差フィルム、偏光フィルム、ARフィルム、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、接着剤、粘着剤、プロテクトフィルム、ハードコート、耐指紋剤など - 半導体
化合物半導体、Si、酸化膜、窒化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、 SOI、Sapphire、など - 表面処理
DLCコート、防錆剤、防曇剤、など - 光学材料
フィルタ、ARコート、など - FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、封止剤）、など - その他
HDD、磁気テープ、建材、など
仕様
仕 様
| 型式 | FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR*1 | |
| 全体 | 標準測定タイプ | 薄膜測定タイプ | 厚膜測定タイプ | 厚膜測定タイプ （高分解能） |
| サンプルサイズ | 最大8インチウェハ（厚さ5mm） | |||
| 測定膜厚範囲 (nd) |
100nm～40μm | 10nm～20μm | 3μm～300μm | 15μm～1.5mm |
| 測定波長範囲 | 450nm～780nm | 300nm～800nm | 900nm～1600nm | 1470nm～1600nm |
| 膜厚精度 | ±0.2nm以内*2 | ±0.2nm以内*2 | - | - |
| 繰り返し精度 | 0.1nm以内*3 | 0.1nm以内*3 | - | - |
| 測定時間 | 0.1s～10s以内 | |||
| スポット径 | 約φ3mm | |||
| 光源 | ハロゲン | 重水素とハロゲンの混合 | ハロゲン | ハロゲン |
| インターフェイス | USB | |||
| 寸法、重量 | <280（W)×570（D)×350（H）mm、約24kg | |||
| ソフトウェア | ||||
| 標準 | ピークバレイ解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乗法解析 | |||
| オプション | 材料評価ソフトウェア、ポスト解析ソフトウェア、膜モデル解析、リファレンスプレート | |||
*1 詳細はお問合せください
*2 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の膜厚保証書記載の測定保証値範囲に対して
*3 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の同一ポイント繰り返し測定時における拡張不確かさ（包括係数 2.1）