反射式膜厚测量仪

顕微を用いた微小領域での絶対反射率の取得により、高精度な光干渉法による膜厚解析が可能な装置です。
半導体分野でのパターンサンプルや、レンズやドリルのような形状サンプルの他、表面粗さや膜厚ムラのあるサンプルなど、多種多様なサンプルの膜厚・光学定数解析が可能です。

製品情報

• 紫外から近赤外域の反射光により、多層膜の膜厚測定・光学定数解析が可能な光干渉式膜厚計です。
• 分光法の採用により、非接触・非破壊かつ高精度で再現性の高い膜厚測定ができます。
• 広い波長域に対応（190nm～1600nm）しています。
• 薄膜から厚膜まで幅広い測定範囲に対応しています。（1nm～1mm)
• 微小スポット（最小φ3μm）の測定により、パターンやムラのあるサンプルに対応しています。

• 絶対反射率測定
• 膜厚解析
• 光学定数解析（n：屈折率、k：消衰計数）

• 機能性フィルム、プラスチック
  透明導電膜（ITO、銀ナノワイヤー）、位相差フィルム、偏光フィルム、ARフィルム、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、接着剤、粘着剤、プロテクトフィルム、ハードコート、耐指紋剤など
• 半導体、化合物半導体
  Si、酸化膜、窒化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、リードフレーム、SOI、Sapphire、など
• 表面処理
  DLCコート、防錆剤、防曇剤、など
• 光学材料 　
  レンズ、フィルタ、ARコート、など
• FPD
  LCD（CF、ITO、LC、PI、PS）、OLED（有機膜、封止剤）、など
• その他
  HDD、磁気テープ、建材、など