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優れた均温特性を持つ管状炉です。
炉長の約7割が均一な温度になりますので、大きな試料や複数の試料を同時に処理できます。
試料に合わせてホルダーをカスタマイズできます。(オプション) |
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優れた均温特性 |
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真空、大気、ガスフロー等各種加熱条件に対応。(超高真空モデルもあります。) |
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昇降温速度が早い |
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シリコンウエハー、セラミックス、圧電材料等の熱処理 |
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加熱中電気抵抗測定 |
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CVD装置 |
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カーボンナノチューブの作成 |
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粉体試料の加熱 |
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大型生産炉の加熱条件確認 |
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鉄鋼材、金属材料の焼鈍 |
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昇温中試料への紫外光照射 |
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単結晶の生成 |
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均温熱処理装置には、炉の大きさにより下記のモデルがあります。 |
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モデル名 |
GFC650V |
GFA430VN |
GFA430UHV |
GFB450 |
最高到達温度 |
1000℃ |
常 用 温 度 |
900℃ |
均 温 容積(mm) |
約φ55×300 |
約φ36×200 |
約φ36×350 |
昇 温 速 度 |
室温から1000℃まで30min |
降 温 速 度 |
1000℃から100℃まで約1H (強制空冷で約30min) |
最大到達真空度 |
5×10-4Pa |
5×10-6Pa |
5×10-4Pa |
電 力 |
3kW |
1.5kW |
2kW |
冷却水量 |
1L/min |
不要 |
1L/min |
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