 |
 |
| |
超高真空中やガスフロー中等、各種雰囲気中に設置された試料のみに、ピンポイントで赤外線を照射し、非接触で試料を急速加熱ができます。
真空システムや分析装置に、簡単に取り付け出来ます。
サーモ理工の主力機種です。 |
| |
 |
| |
 |
高速昇温 |
： 最高昇温速度 150℃/sec、1500℃まで約1min |
|
クリーン加熱 |
： 熱源からのガス発生や電磁誘導の心配無し |
|
局所加熱 |
： 試料のみに赤外線を照射、周りを加熱しない |
|
取付自在 |
： 各種システムに取付可能 |
|
| |
 |
| |
|
Si、SiC等試料の高速昇温、アニール |
|
酸化雰囲気中での酸化物結晶生成、薄膜作成 |
|
水素中、窒素中の基板の加熱 |
|
X線や紫外線照射中試料の昇温 |
|
昇温脱離ガス分析装置、XPS、XRD、PLD等分析装置内サンプルの加熱 |
|
磁場中加熱、無磁場中加熱 |
|
加圧雰囲気中加熱 |
|
試料に荷重をかけての加熱 |
|
| |
 |
| |
| 赤外線導入加熱装置は、用途により下記仕様があります。 |
|
| |
|
| 超高真空型 |
10-9Paの超高真空に対応します。 |
| 高速昇温型 |
最高昇温速度 150℃/secの高速昇温ができます。 |
| 大気中加熱型 |
大気中に設置した試料に、スポット加熱ができます。 |
| 加圧雰囲気型 |
10気圧以下の加圧チャンバー内試料を加熱できます。 |
| 特 殊 仕 様 |
GVシリーズの特長を生かし、急速降温、荷重加熱、磁場中加熱など様々なご要望にお応えできます。
お気軽にお問い合わせください。 |
| CEマーク適合 |
CEマーク適合仕様も製作しております。 |
|
原理図
 |
| |
| 超高真空型 GVH |
| |
| モデル名 |
GVH198 |
GVH298 |
| 赤外線ランプ定格 |
1kW |
2kW |
| 最高到達温度 |
1200℃ |
1400℃ |
| 加 熱 面 積 |
φ20mm |
| 最大昇温速度 |
1℃/sec |
| 最大到達真空度 |
5×10-9Pa |
| 冷 却 水 量 |
1L/min |
2L/min |
|
| |
| 高速昇温型 GV / GVL |
| |
| モデル名 |
GV154 |
GV198 |
GVL298 |
GVL398 |
| 赤外線ランプ定格 |
500W |
1kW |
2kW |
3kW |
| 最高到達温度 |
1100℃ |
1300℃ |
1500℃ |
1600℃ |
| 加 熱 面 積 |
φ14mm |
φ20mm |
| 最大昇温速度 |
100℃/sec |
100～150℃/sec |
| 最大到達真空度 |
5×10-7Pa |
| 冷 却 水 量 |
1L/min |
2L/min |
|
| |
| 加圧雰囲気型 GVP |
| |
| モデル名 |
GVP198 |
GVP298 |
| 赤外線ランプ定格 |
1kW |
2kW |
| 最高到達温度 |
1200℃ |
1300℃ |
| 加 熱 面 積 |
φ20mm |
| 最大昇温速度 |
100℃/sec |
| 最 大 耐 圧 |
1MPa以下 |
| 冷 却 水 量 |
1L/min |
2L/min |
|
|
