1990年代初期由理学创新技术推出的梯度多层膜单色器为全反射X射线荧光光谱仪提供高强度和低背景。Max-Flux®光学器件使用梯度多层膜,保证相同X射线能量从沿着抛物线光学器件表面的各个点衍射出来。理学的Osmic®涂层技术提供了小于0.5%的d间距变化的结果。这种高精度意味着提供给你的实验更大的灵活性。
光学的精度也是良好性能的关键。使用专有技术,标准Max-Flux光学器件在10角秒内制作理想曲线。当需要最佳性能时,理学提供新型Arc)Sec®技术来获得≤ 4角秒的光学精度。
1990年代初期由理学创新技术推出的梯度多层膜单色器为全反射X射线荧光光谱仪提供高强度和低背景。Max-Flux®光学器件使用梯度多层膜,保证相同X射线能量从沿着抛物线光学器件表面的各个点衍射出来。理学的Osmic®涂层技术提供了小于0.5%的d间距变化的结果。这种高精度意味着提供给你的实验更大的灵活性。
光学的精度也是良好性能的关键。使用专有技术,标准Max-Flux光学器件在10角秒内制作理想曲线。当需要最佳性能时,理学提供新型Arc)Sec®技术来获得≤ 4角秒的光学精度。